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Effect of compressive and tensile strain on misfit dislocation injection in SiGe epitaxial layers

DOI zum Zitieren dieses Dokuments:
10.5283/epub.10015
Schorer, R. ; Wegscheider, Werner ; Abstreiter, Gerhard
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Veröffentlichungsdatum dieses Volltextes: 26 Okt 2009 14:26


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