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Effect of compressive and tensile strain on misfit dislocation injection in SiGe epitaxial layers

Schorer, R. und Wegscheider, Werner und Abstreiter, Gerhard (1993) Effect of compressive and tensile strain on misfit dislocation injection in SiGe epitaxial layers. Journal of Vacuum Science & Technology B 11 (3), S. 1056-1063.

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Dokumentenart:Artikel
Datum:Mai 1993
Institutionen:Physik > Institut für Experimentelle und Angewandte Physik > Entpflichtete oder im Ruhestand befindliche Professoren > Arbeitsgruppe Werner Wegscheider
Dewey-Dezimal-Klassifikation:500 Naturwissenschaften und Mathematik > 530 Physik
Status:Veröffentlicht
Begutachtet:Unbekannt / Keine Angabe
An der Universität Regensburg entstanden:Unbekannt / Keine Angabe
Eingebracht am:26 Okt 2009 14:26
Zuletzt geändert:13 Mrz 2014 11:19
Dokumenten-ID:10015
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