Startseite UR

Invited Review Electronic properties of nanostructures defined in Ga[Al]As heterostructures by local oxidation

DOI zum Zitieren dieses Dokuments:
10.5283/epub.11311
Fuhrer, A. ; Dorn, A. ; Lüscher, S. ; Heinzel, Thomas ; Ensslin, Klaus ; Wegscheider, Werner ; Bichler, Max
[img]PDF
(1MB) - Nur für Mitarbeiter des Archivs
Veröffentlichungsdatum dieses Volltextes: 07 Dez 2009 13:18


Zusammenfassung

Semiconductor nanostructures are fabricated by local oxidation of Ga[Al]As heterostructures with an atomic force microscope (AFM). The GaAs surface is locally oxidized by applying a bias between the substrate and a conductive AFM tip in a humidity-controlled environment. For high-quality two-dimensional electron gases (2DEGS) located close enough to the sample surface the electrons get depleted ...

plus


Nur für Besitzer und Autoren: Kontrollseite des Eintrags
  1. Universität

Universitätsbibliothek

Publikationsserver

Kontakt:

Publizieren: oa@ur.de
0941 943 -4239 oder -69394

Dissertationen: dissertationen@ur.de
0941 943 -3904

Forschungsdaten: datahub@ur.de
0941 943 -5707

Ansprechpartner