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Kane, B. E. ; Eisenstein, J. P. ; Wegscheider, Werner ; Pfeiffer, Loren N. ; West, Kenneth W.

Separately contacted electron-hole double layer in a GaAs/AlxGa1−xAs heterostructure

Kane, B. E., Eisenstein, J. P., Wegscheider, Werner, Pfeiffer, Loren N. und West, Kenneth W. (1994) Separately contacted electron-hole double layer in a GaAs/AlxGa1−xAs heterostructure. Applied Physics Letters 65 (25), S. 3266-3268.

Veröffentlichungsdatum dieses Volltextes: 02 Nov 2009 13:19
Artikel
DOI zum Zitieren dieses Dokuments: 10.5283/epub.10834


Zusammenfassung

We describe a method for creating closely spaced parallel two-dimensional electron and hole gases confined in 200 Å GaAs wells separated by a 200 Å wide AlxGa1−xAs barrier. Low-temperature ohmic contacts are made to both the electrons and holes, whose densities are individually adjustable between 1010/cm2 to greater than 1011/cm2.



Beteiligte Einrichtungen


Details

DokumentenartArtikel
Titel eines Journals oder einer ZeitschriftApplied Physics Letters
Verlag:American Institute of Physics
Band:65
Nummer des Zeitschriftenheftes oder des Kapitels:25
Seitenbereich:S. 3266-3268
Datum19 Dezember 1994
InstitutionenPhysik > Institut für Experimentelle und Angewandte Physik > Entpflichtete oder im Ruhestand befindliche Professoren > Arbeitsgruppe Werner Wegscheider
Identifikationsnummer
WertTyp
10.1063/1.112432DOI
Verwandte URLs
URLURL Typ
http://link.aip.org/link/?APPLAB/65/3266/1Verlag
Dewey-Dezimal-Klassifikation500 Naturwissenschaften und Mathematik > 530 Physik
StatusVeröffentlicht
BegutachtetUnbekannt / Keine Angabe
An der Universität Regensburg entstandenUnbekannt / Keine Angabe
Dokumenten-ID10834

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