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Kaiser, S. ; Jakob, M. ; Zweck, J. ; Gebhardt, W. ; Ambacher, O. ; Dimitrov, R. ; Schremer, A. T. ; Smart, J. A. ; Shealy, J. R.

Structural properties of AlGaN/GaN heterostructures on Si(111) substrates suitable for high-electron mobility transistors

Kaiser, S., Jakob, M., Zweck, J., Gebhardt, W., Ambacher, O., Dimitrov, R., Schremer, A. T., Smart, J. A. und Shealy, J. R. (2000) Structural properties of AlGaN/GaN heterostructures on Si(111) substrates suitable for high-electron mobility transistors. Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures Processing, Measurement, and Phenomena 18 (2), S. 733-740.

Veröffentlichungsdatum dieses Volltextes: 19 Dez 2024 15:59
Artikel



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Details

DokumentenartArtikel
Titel eines Journals oder einer ZeitschriftJournal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures Processing, Measurement, and Phenomena
Verlag:AMER INST PHYSICS
Ort der Veröffentlichung:MELVILLE
Band:18
Nummer des Zeitschriftenheftes oder des Kapitels:2
Seitenbereich:S. 733-740
Datum2000
InstitutionenPhysik > Institut für Experimentelle und Angewandte Physik > Entpflichtete oder im Ruhestand befindliche Professoren > Lehrstuhl Professor Back > Arbeitsgruppe Josef Zweck
Identifikationsnummer
WertTyp
10.1116/1.591268DOI
Stichwörter / KeywordsMOLECULAR-BEAM EPITAXY; LIGHT-EMITTING-DIODES; GAN; NITRIDE; SILICON; GROWTH
Dewey-Dezimal-Klassifikation500 Naturwissenschaften und Mathematik > 530 Physik
StatusVeröffentlicht
BegutachtetJa, diese Version wurde begutachtet
An der Universität Regensburg entstandenJa
Dokumenten-ID74404

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