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Kaiser, S. ; Jakob, M. ; Zweck, J. ; Gebhardt, W. ; Ambacher, O. ; Dimitrov, R. ; Schremer, A. T. ; Smart, J. A. ; Shealy, J. R.

Structural properties of AlGaN/GaN heterostructures on Si(111) substrates suitable for high-electron mobility transistors

Artikel

Kaiser, S., Jakob, M., Zweck, J., Gebhardt, W., Ambacher, O., Dimitrov, R., Schremer, A. T., Smart, J. A. und Shealy, J. R. (2000) Structural properties of AlGaN/GaN heterostructures on Si(111) substrates suitable for high-electron mobility transistors. Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures Processing, Measurement, and Phenomena 18 (2), S. 733-740.



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Details

DokumentenartArtikel
Titel eines Journals oder einer ZeitschriftJournal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures Processing, Measurement, and Phenomena
VerlagAMER INST PHYSICS
Ort der VeröffentlichungMELVILLE
Band18
Nummer des Zeitschriftenheftes oder des Kapitels2
SeitenbereichS. 733-740
Datum2000
Veröffentlichungsdatum19 Dez 2024 15:59
InstitutionenPhysik > Institut für Experimentelle und Angewandte Physik > Entpflichtete oder im Ruhestand befindliche Professoren > Lehrstuhl Professor Back > Arbeitsgruppe Josef Zweck
Identifikationsnummer
WertTyp
10.1116/1.591268DOI
Stichwörter / KeywordsMOLECULAR-BEAM EPITAXY; LIGHT-EMITTING-DIODES; GAN; NITRIDE; SILICON; GROWTH
Dewey-Dezimal-Klassifikation500 Naturwissenschaften und Mathematik > 530 Physik
StatusVeröffentlicht
BegutachtetJa, diese Version wurde begutachtet
An der Universität Regensburg entstandenJa
Dokumenten-ID74404

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