Direkt zum Inhalt

Gmeinwieser, Nikolaus ; Engl, Karl ; Gottfriedsen, P. ; Schwarz, Ulrich ; Zweck, Josef ; Wegscheider, Werner ; Miller, S. ; Lugauer, H.-J. ; Leber, A. ; Weimar, A. ; Lell, Alfred ; Härle, Volker

Correlation of strain, wing tilt, dislocation density, and photoluminescence in epitaxial lateral overgrown GaN on SiC substrates

Gmeinwieser, Nikolaus, Engl, Karl, Gottfriedsen, P., Schwarz, Ulrich , Zweck, Josef, Wegscheider, Werner, Miller, S., Lugauer, H.-J., Leber, A., Weimar, A., Lell, Alfred und Härle, Volker (2004) Correlation of strain, wing tilt, dislocation density, and photoluminescence in epitaxial lateral overgrown GaN on SiC substrates. Journal of Applied Physics 96 (7), S. 3666-3672.

Veröffentlichungsdatum dieses Volltextes: 11 Jan 2010 13:19
Artikel
DOI zum Zitieren dieses Dokuments: 10.5283/epub.11821


Zusammenfassung

Epitaxial lateral overgrown (ELOG) gallium nitride (GaN) on SiC is being studied as a possible substrate for blue laser diodes. A defect density below 2.2x10(7) cm(-2) in the wings, compared to 2x10(9) cm(-2) in the windows, was achieved. Interaction of the overgrown GaN with the SiO2 mask causes a few degree wing tilt and a transition region of high defect density between windows and wings. ...

Epitaxial lateral overgrown (ELOG) gallium nitride (GaN) on SiC is being studied as a possible substrate for blue laser diodes. A defect density below 2.2x10(7) cm(-2) in the wings, compared to 2x10(9) cm(-2) in the windows, was achieved. Interaction of the overgrown GaN with the SiO2 mask causes a few degree wing tilt and a transition region of high defect density between windows and wings. Diminished PL, strong tensile stress, and a defect correlated line at around 3.4 eV emerge in this up to two-micron-wide transition region. By changing the mask material from SiO2 to SiN we were able to reduce the wing tilt drastically to below 0.7degrees. This eliminates the defective transition region and extends the low strain and the low defect density area of the ELOG wings. The methods used to study strain, wing tilt, and threading dislocations in the ELOG samples are microphotoluminescence (muPL), transmission electron microscopy, x-ray diffraction, and scanning electron microscope. We also demonstrate the use of the first momentum of the muPL spectra as an effective means to measure strain distribution. (C) 2004 American Institute of Physics.



Beteiligte Einrichtungen


Details

DokumentenartArtikel
Titel eines Journals oder einer ZeitschriftJournal of Applied Physics
Verlag:AMER INST PHYSICS
Ort der Veröffentlichung:MELVILLE
Band:96
Nummer des Zeitschriftenheftes oder des Kapitels:7
Seitenbereich:S. 3666-3672
Datum1 Oktober 2004
InstitutionenPhysik > Institut für Experimentelle und Angewandte Physik > Entpflichtete oder im Ruhestand befindliche Professoren > Lehrstuhl Professor Back > Arbeitsgruppe Josef Zweck
Physik > Institut für Experimentelle und Angewandte Physik > Entpflichtete oder im Ruhestand befindliche Professoren > Arbeitsgruppe Werner Wegscheider
Physik > Institut für Experimentelle und Angewandte Physik > Entpflichtete oder im Ruhestand befindliche Professoren > Arbeitsgruppe Ulrich Schwarz
Identifikationsnummer
WertTyp
10.1063/1.1784617DOI
Verwandte URLs
URLURL Typ
http://link.aip.org/link/?JAPIAU/96/3666/1Verlag
Klassifikation
NotationArt
81.05.Ea; 68.47.Fg; 78.55.Cr; 61.72.Ff; 68.55.Jk; 78.66.Fd; 68.60.Bs;PACS
Stichwörter / KeywordsCRYSTALLOGRAPHIC TILT; MASK MATERIAL; LASER-DIODES; LAYERS; DEPENDENCE; DEFECTS; FILMS;
Dewey-Dezimal-Klassifikation500 Naturwissenschaften und Mathematik > 530 Physik
StatusVeröffentlicht
BegutachtetUnbekannt / Keine Angabe
An der Universität Regensburg entstandenUnbekannt / Keine Angabe
Dokumenten-ID11821

Bibliographische Daten exportieren

Nur für Besitzer und Autoren: Kontrollseite des Eintrags

nach oben