Ion beam deposition of fluorinated amorphous carbon
Ronning, C.
, Büttner, M., Vetter, U., Feldermann, H., Wondratschek, O., Hofsäss, H., Brunner, W., Au, Frederick C. K., Li, Quan und Lee, S. T.
(2001)
Ion beam deposition of fluorinated amorphous carbon.
Journal of Applied Physics 90 (8), S. 4237-4245.
Veröffentlichungsdatum dieses Volltextes: 19 Dez 2024 15:49
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Beteiligte Einrichtungen
Details
| Dokumentenart | Artikel | ||||
| Titel eines Journals oder einer Zeitschrift | Journal of Applied Physics | ||||
| Verlag: | AMER INST PHYSICS | ||||
|---|---|---|---|---|---|
| Ort der Veröffentlichung: | MELVILLE | ||||
| Band: | 90 | ||||
| Nummer des Zeitschriftenheftes oder des Kapitels: | 8 | ||||
| Seitenbereich: | S. 4237-4245 | ||||
| Datum | 2001 | ||||
| Institutionen | Physik > Institut für Experimentelle und Angewandte Physik | ||||
| Identifikationsnummer |
| ||||
| Stichwörter / Keywords | LOW-DIELECTRIC-CONSTANT; DIAMOND-LIKE-CARBON; CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION; THIN-FILMS; INTERLAYER DIELECTRICS; THERMAL-STABILITY; HYDROGEN DILUTION; GLOW-DISCHARGE; RAMAN-SPECTRA; TA-C; | ||||
| Dewey-Dezimal-Klassifikation | 500 Naturwissenschaften und Mathematik > 530 Physik | ||||
| Status | Veröffentlicht | ||||
| Begutachtet | Ja, diese Version wurde begutachtet | ||||
| An der Universität Regensburg entstanden | Ja | ||||
| Dokumenten-ID | 73403 |
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