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Champagne, A. R. ; Couture, A. J. ; Kuemmeth, Ferdinand ; Ralph, D. C.

Nanometer-scale scanning sensors fabricated using stencil lithography

Champagne, A. R., Couture, A. J., Kuemmeth, Ferdinand und Ralph, D. C. (2003) Nanometer-scale scanning sensors fabricated using stencil lithography. Applied Physics Letters 82 (7), S. 1111-1113.

Veröffentlichungsdatum dieses Volltextes: 07 Apr 2026 08:48
Artikel
DOI zum Zitieren dieses Dokuments: 10.5283/epub.79092


Zusammenfassung

We describe a flexible technique for fabricating 10-nm-scale devices for use as high-resolution scanning sensors and functional probes. Metallic structures are deposited directly onto atomic force microscope tips by evaporation through nanoscale holes fabricated in a stencil mask. We report on the lithographic capabilities of the technique and discuss progress in one initial application, to make high-spatial-resolution magnetic force sensors.



Beteiligte Einrichtungen


Details

DokumentenartArtikel
Titel eines Journals oder einer ZeitschriftApplied Physics Letters
Verlag:American Institute of Physics (AIP) Publishing
Band:82
Nummer des Zeitschriftenheftes oder des Kapitels:7
Seitenbereich:S. 1111-1113
Datum17 Februar 2003
InstitutionenPhysik > Institut für Experimentelle und Angewandte Physik
Identifikationsnummer
WertTyp
10.1063/1.1554483DOI
Dewey-Dezimal-Klassifikation500 Naturwissenschaften und Mathematik > 530 Physik
StatusVeröffentlicht
BegutachtetJa, diese Version wurde begutachtet
An der Universität Regensburg entstandenNein
URN der UB Regensburgurn:nbn:de:bvb:355-epub-790921
Dokumenten-ID79092

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