Schorer, R. ; Wegscheider, Werner ; Abstreiter, Gerhard

Effect of compressive and tensile strain on misfit dislocation injection in SiGe epitaxial layers

Artikel

Schorer, R., Wegscheider, Werner und Abstreiter, Gerhard (1993) Effect of compressive and tensile strain on misfit dislocation injection in SiGe epitaxial layers. Journal of Vacuum Science & Technology B 11 (3), S. 1056-1063.

DOI zum Zitieren dieses Dokuments: 10.5283/epub.10015

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Physik > Institut für Experimentelle und Angewandte Physik > Entpflichtete oder im Ruhestand befindliche Professoren > Arbeitsgruppe Werner Wegscheider
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Details

Dokumentenart	Artikel
Titel eines Journals oder einer Zeitschrift	Journal of Vacuum Science & Technology B
Verlag	American Vacuum Society
Band	11
Nummer des Zeitschriftenheftes oder des Kapitels	3
Seitenbereich	S. 1056-1063
Datum	Mai 1993
Veröffentlichungsdatum	26 Okt 2009 14:26
Institutionen	Physik > Institut für Experimentelle und Angewandte Physik > Entpflichtete oder im Ruhestand befindliche Professoren > Arbeitsgruppe Werner Wegscheider
Dewey-Dezimal-Klassifikation	500 Naturwissenschaften und Mathematik > 530 Physik
Status	Veröffentlicht
Begutachtet	Unbekannt / Keine Angabe
An der Universität Regensburg entstanden	Unbekannt / Keine Angabe
Dokumenten-ID	10015

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