Effect of compressive and tensile strain on misfit dislocation injection in SiGe epitaxial layers

Schorer, R. ; Wegscheider, Werner ; Abstreiter, Gerhard

PDF
(1MB) - Nur für Mitarbeiter des Archivs

Veröffentlichungsdatum dieses Volltextes: 26 Okt 2009 14:26

Details

Dokumentenart:	Artikel
Titel eines Journals oder einer Zeitschrift:	Journal of Vacuum Science & Technology B
Verlag:	American Vacuum Society
Band:	11
Nummer des Zeitschriftenheftes oder des Kapitels:	3
Seitenbereich:	S. 1056-1063
Datum:	Mai 1993
Institutionen:	Physik > Institut für Experimentelle und Angewandte Physik > Entpflichtete oder im Ruhestand befindliche Professoren > Arbeitsgruppe Werner Wegscheider
Dewey-Dezimal-Klassifikation:	500 Naturwissenschaften und Mathematik > 530 Physik
Status:	Veröffentlicht
Begutachtet:	Unbekannt / Keine Angabe
An der Universität Regensburg entstanden:	Unbekannt / Keine Angabe
Dokumenten-ID:	10015

Nur für Besitzer und Autoren: Kontrollseite des Eintrags

Downloadstatistik

Weitere Literatur (mittels CORE)