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Numerical study of anharmonic vibrational decay in amorphous and paracrystalline silicon

URN zum Zitieren dieses Dokuments: urn:nbn:de:bvb:355-epub-18263

Fabian, Jaroslav , Feldman, Joseph L., Hellberg, C. Stephen und Nakhmanson, S. M. (2003) Numerical study of anharmonic vibrational decay in amorphous and paracrystalline silicon. Physical Review B 67 (22), S. 224302.

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Zusammenfassung

The anharmonic decay rates of atomic vibrations in amorphous silicon (a-Si) and paracrystalline silicon (p-Si), containing small crystalline grains embedded in a disordered matrix, are calculated using realistic structural models. The models are 1000-atom four-coordinated networks relaxed to a local minimum of the Stillinger-Weber interatomic potential. The vibrational decay rates are calculated ...

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Dokumentenart:Artikel
Datum:Juni 2003
Institutionen:Physik > Institut für Theoretische Physik > Lehrstuhl Professor Richter > Arbeitsgruppe Jaroslav Fabian
Identifikationsnummer:
WertTyp
10.1103/PhysRevB.67.224302DOI
Dewey-Dezimal-Klassifikation:500 Naturwissenschaften und Mathematik > 530 Physik
Status:Veröffentlicht
Begutachtet:Ja, diese Version wurde begutachtet
An der Universität Regensburg entstanden:Ja
Eingebracht am:20 Mrz 2007
Zuletzt geändert:08 Mrz 2017 08:17
Dokumenten-ID:1826
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