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Mohajerani, M. S. ; Khachadorian, S. ; Schimpke, T. ; Nenstiel, C. ; Hartmann, J. ; Ledig, J. ; Avramescu, A. ; Strassburg, M. ; Hoffmann, A. ; Waag, A.

Evaluation of local free carrier concentrations in individual heavily-doped GaN:Si micro-rods by micro-Raman spectroscopy

Artikel

Mohajerani, M. S., Khachadorian, S., Schimpke, T., Nenstiel, C., Hartmann, J., Ledig, J., Avramescu, A., Strassburg, M., Hoffmann, A. und Waag, A. (2016) Evaluation of local free carrier concentrations in individual heavily-doped GaN:Si micro-rods by micro-Raman spectroscopy. Applied Physics Letters 108 (9), 091112.



Beteiligte Einrichtungen


    Details

    DokumentenartArtikel
    Titel eines Journals oder einer ZeitschriftApplied Physics Letters
    Band108
    Nummer des Zeitschriftenheftes oder des Kapitels9
    Seitenbereich091112
    Datum2016
    Veröffentlichungsdatum17 Mrz 2020 11:01
    InstitutionenNicht ausgewählt
    Identifikationsnummer
    WertTyp
    10.1063/1.4943079DOI
    Dewey-Dezimal-KlassifikationNicht ausgewählt
    StatusVeröffentlicht
    BegutachtetJa, diese Version wurde begutachtet
    An der Universität Regensburg entstandenJa
    Dokumenten-ID41888

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