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Hölzl, R. ; Fabry, L. ; Range, K.-J.

Ni reactions with surfaces: dependence of gettering efficiencies for Ni on crystal-growth conditions, back-side-gettering techniques, oxygen precipitates and thermal treatments

Artikel

Hölzl, R., Fabry, L. und Range, K.-J. (2002) Ni reactions with surfaces: dependence of gettering efficiencies for Ni on crystal-growth conditions, back-side-gettering techniques, oxygen precipitates and thermal treatments. Applied Physics A: Materials Science & Processing 74 (5), S. 711-718.



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Details

DokumentenartArtikel
Titel eines Journals oder einer ZeitschriftApplied Physics A: Materials Science & Processing
VerlagSPRINGER-VERLAG
Ort der VeröffentlichungNEW YORK
Band74
Nummer des Zeitschriftenheftes oder des Kapitels5
SeitenbereichS. 711-718
Datum2002
Veröffentlichungsdatum19 Dez 2024 15:43
InstitutionenChemie und Pharmazie > Institut für Anorganische Chemie
Identifikationsnummer
WertTyp
10.1007/s003390100946DOI
Stichwörter / KeywordsHELIUM ION-IMPLANTATION; SILICON-WAFERS; MASS-SPECTROMETRY; TRANSITION-METALS; COPPER; CAVITIES; CU; CONTAMINATION; NANOCAVITIES; MECHANISMS;
Dewey-Dezimal-Klassifikation500 Naturwissenschaften und Mathematik > 540 Chemie
StatusVeröffentlicht
BegutachtetJa, diese Version wurde begutachtet
An der Universität Regensburg entstandenJa
Dokumenten-ID72991

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