Direkt zum Inhalt

Hölzl, R. ; Fabry, L. ; Range, K.-J.

Ni reactions with surfaces: dependence of gettering efficiencies for Ni on crystal-growth conditions, back-side-gettering techniques, oxygen precipitates and thermal treatments

Hölzl, R., Fabry, L. und Range, K.-J. (2002) Ni reactions with surfaces: dependence of gettering efficiencies for Ni on crystal-growth conditions, back-side-gettering techniques, oxygen precipitates and thermal treatments. Applied Physics A: Materials Science & Processing 74 (5), S. 711-718.

Veröffentlichungsdatum dieses Volltextes: 19 Dez 2024 15:43
Artikel



Beteiligte Einrichtungen


Details

DokumentenartArtikel
Titel eines Journals oder einer ZeitschriftApplied Physics A: Materials Science & Processing
Verlag:SPRINGER-VERLAG
Ort der Veröffentlichung:NEW YORK
Band:74
Nummer des Zeitschriftenheftes oder des Kapitels:5
Seitenbereich:S. 711-718
Datum2002
InstitutionenChemie und Pharmazie > Institut für Anorganische Chemie
Identifikationsnummer
WertTyp
10.1007/s003390100946DOI
Stichwörter / KeywordsHELIUM ION-IMPLANTATION; SILICON-WAFERS; MASS-SPECTROMETRY; TRANSITION-METALS; COPPER; CAVITIES; CU; CONTAMINATION; NANOCAVITIES; MECHANISMS;
Dewey-Dezimal-Klassifikation500 Naturwissenschaften und Mathematik > 540 Chemie
StatusVeröffentlicht
BegutachtetJa, diese Version wurde begutachtet
An der Universität Regensburg entstandenJa
Dokumenten-ID72991

Bibliographische Daten exportieren

Nur für Besitzer und Autoren: Kontrollseite des Eintrags

nach oben