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Doping behaviour of implanted magnesium in silicon
Sigmund, H. und Weiss, Dieter (1983) Doping behaviour of implanted magnesium in silicon. In: Ryssel, H., (ed.) Ion Implantation: Equipment and Techniques; proceedings of the 4. Internat. Conference Berchtesgaden, Fed. Rep. of Germany, Sept. 13-17, 1982. Springer Series in Electrophysics, 11. Springer, Berlin, S. 473-480. ISBN 3-540-12491-8, 0-387-12491-8.Veröffentlichungsdatum dieses Volltextes: 05 Aug 2009 13:57
Buchkapitel
Beteiligte Einrichtungen
Details
| Dokumentenart | Buchkapitel |
| ISBN | 3-540-12491-8, 0-387-12491-8 |
| Buchtitel: | Ion Implantation: Equipment and Techniques; proceedings of the 4. Internat. Conference Berchtesgaden, Fed. Rep. of Germany, Sept. 13-17, 1982 |
|---|---|
| Verlag: | Springer |
| Ort der Veröffentlichung: | Berlin |
| Sonstige Reihe: | Springer Series in Electrophysics |
| Band: | 11 |
| Seitenbereich: | S. 473-480 |
| Datum | 1983 |
| Institutionen | Physik > Institut für Experimentelle und Angewandte Physik > Lehrstuhl Professor Weiss > Arbeitsgruppe Dieter Weiss |
| Dewey-Dezimal-Klassifikation | 500 Naturwissenschaften und Mathematik > 530 Physik |
| Status | Veröffentlicht |
| Begutachtet | Ja, diese Version wurde begutachtet |
| An der Universität Regensburg entstanden | Unbekannt / Keine Angabe |
| URN der UB Regensburg | urn:nbn:de:bvb:355-epub-78478 |
| Dokumenten-ID | 7847 |
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