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Low, Jonathan Z. ; Kladnik, Gregor ; Patera, Laerte L. ; Sokolov, Sophia ; Lovat, Giacomo ; Kumarasamy, Elango ; Repp, Jascha ; Campos, Luis M. ; Cvetko, Dean ; Morgante, Alberto ; Venkataraman, Latha

The Environment-Dependent Behavior of the Blatter Radical at the Metal-Molecule Interface

Low, Jonathan Z., Kladnik, Gregor, Patera, Laerte L. , Sokolov, Sophia, Lovat, Giacomo , Kumarasamy, Elango, Repp, Jascha , Campos, Luis M., Cvetko, Dean, Morgante, Alberto und Venkataraman, Latha (2019) The Environment-Dependent Behavior of the Blatter Radical at the Metal-Molecule Interface. Nano Letters 19 (4), S. 2543-2548.

Veröffentlichungsdatum dieses Volltextes: 21 Mrz 2019 06:29
Artikel



Beteiligte Einrichtungen


Details

DokumentenartArtikel
Titel eines Journals oder einer ZeitschriftNano Letters
Verlag:AMER CHEMICAL SOC
Ort der Veröffentlichung:WASHINGTON
Band:19
Nummer des Zeitschriftenheftes oder des Kapitels:4
Seitenbereich:S. 2543-2548
DatumMärz 2019
InstitutionenPhysik > Institut für Experimentelle und Angewandte Physik > Arbeitsgruppe Jascha Repp
Identifikationsnummer
WertTyp
10.1021/acs.nanolett.9b00275DOI
Stichwörter / KeywordsORGANIC RADICALS; THIN-FILMS; PARAMAGNETIC CHARACTER; ELECTRONIC-STRUCTURE; Organic spintronics; organic radicals; Blatter radical; spinterface; Kondo resonance; single-molecule junctions
Dewey-Dezimal-Klassifikation500 Naturwissenschaften und Mathematik > 530 Physik
500 Naturwissenschaften und Mathematik > 540 Chemie
StatusVeröffentlicht
BegutachtetJa, diese Version wurde begutachtet
An der Universität Regensburg entstandenZum Teil
Dokumenten-ID38447

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