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Fabrication of double quantum dots by combining afm and e-beam lithography

Rogge, M. C., Fühner, C., Keyser, U. F., Bichler, Max, Abstreiter, Gerhard, Wegscheider, Werner und Haug, R. J. (2004) Fabrication of double quantum dots by combining afm and e-beam lithography. Physica E Low-dimensional Systems and Nanostructures 21 (2-4), S. 483-486.

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Zusammenfassung

In recent years several attempts have been made to fabricate coupled quantum dots as a crucial element of quantum computing devices. One important challenge is to achieve a reliable control of the interdot tunneling. For this purpose we have combined direct nanolithography by local anodic oxidation (LAO) with standard electron-beam lithography. LAO is used to produce parallel double quantum dots. ...

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Dokumentenart:Artikel
Datum:März 2004
Institutionen:Physik > Institut für Experimentelle und Angewandte Physik > Entpflichtete oder im Ruhestand befindliche Professoren > Arbeitsgruppe Werner Wegscheider
Identifikationsnummer:
WertTyp
doi:10.1016/j.physe.2003.11.054DOI
Klassifikation:
NotationArt
73.21.La; 73.23.Hk; 73.40.GkPACS
Dewey-Dezimal-Klassifikation:500 Naturwissenschaften und Mathematik > 530 Physik
Status:Veröffentlicht
Begutachtet:Unbekannt / Keine Angabe
An der Universität Regensburg entstanden:Unbekannt / Keine Angabe
Eingebracht am:11 Jan 2010 13:31
Zuletzt geändert:08 Mrz 2017 08:24
Dokumenten-ID:11955
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