Startseite UR

Effect of substrate-temperature on the microstructure of thin niobium films

URN zum Zitieren dieses Dokuments: urn:nbn:de:bvb:355-epub-188633

Surgers, C., Strunk, Christoph und Löhneysen, H. (1994) Effect of substrate-temperature on the microstructure of thin niobium films. Thin Solid Films 239 (1), S. 51-56.

[img]
Vorschau
PDF
Download (542kB)

Zum Artikel beim Verlag (über DOI)


Zusammenfassung

Niobium films with constant thickness have been deposited on sapphire (11 $($) over bar$$ 20) by electron-beam evaporation at different substrate; temperatures (150 degrees C less than or equal to T-S less than or equal to 750 degrees C). The samples were characterized by X-ray diffraction and resistivity measurements. X-ray reflectivity shows that all films are covered with an oxide layer of ...

plus


Bibliographische Daten exportieren



Dokumentenart:Artikel
Datum:1994
Institutionen:Physik > Institut für Experimentelle und Angewandte Physik > Lehrstuhl Professor Weiss > Arbeitsgruppe Christoph Strunk
Identifikationsnummer:
WertTyp
10.1016/0040-6090(94)90107-4DOI
Stichwörter / Keywords:X-RAY-DIFFRACTION; NB FILMS; EPITAXIAL-GROWTH; REFLECTION; SURFACES
Dewey-Dezimal-Klassifikation:500 Naturwissenschaften und Mathematik > 530 Physik
Status:Veröffentlicht
Begutachtet:Ja, diese Version wurde begutachtet
An der Universität Regensburg entstanden:Unbekannt / Keine Angabe
Eingebracht am:22 Dez 2010 07:17
Zuletzt geändert:08 Mrz 2017 08:28
Dokumenten-ID:18863
Nur für Besitzer und Autoren: Kontrollseite des Eintrags

Downloads

Downloads im Monat während des letzten Jahres

  1. Universität

Universitätsbibliothek

Publikationsserver

Kontakt:

Publizieren: oa@ur.de

Dissertationen: dissertationen@ur.de

Forschungsdaten: daten@ur.de

Ansprechpartner