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Titova, Lyubov V. ; Cocker, Tyler L. ; Xu, Sijia ; Baribeau, Jean-Marc ; Wu, Xiaohua ; Lockwood, David J. ; Hegmann, Frank A.

Ultrafast carrier dynamics and the role of grain boundaries in polycrystalline silicon thin films grown by molecular beam epitaxy

Titova, Lyubov V., Cocker, Tyler L., Xu, Sijia, Baribeau, Jean-Marc, Wu, Xiaohua, Lockwood, David J. und Hegmann, Frank A. (2016) Ultrafast carrier dynamics and the role of grain boundaries in polycrystalline silicon thin films grown by molecular beam epitaxy. Semiconductor Science and Technology 31 (10), S. 105017.

Veröffentlichungsdatum dieses Volltextes: 17 Mrz 2020 12:08
Artikel



Beteiligte Einrichtungen


Details

DokumentenartArtikel
Titel eines Journals oder einer ZeitschriftSemiconductor Science and Technology
Verlag:IOP PUBLISHING LTD
Ort der Veröffentlichung:BRISTOL
Band:31
Nummer des Zeitschriftenheftes oder des Kapitels:10
Seitenbereich:S. 105017
Datum2016
InstitutionenPhysik > Institut für Experimentelle und Angewandte Physik > Lehrstuhl Professor Huber > Arbeitsgruppe Rupert Huber
Identifikationsnummer
WertTyp
10.1088/0268-1242/31/10/105017DOI
Stichwörter / KeywordsRESOLVED TERAHERTZ SPECTROSCOPY; CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION; TEMPERATURE SI GROWTH; AMORPHOUS-SILICON; LIMITING THICKNESS; NANOCRYSTAL FILMS; ON-SAPPHIRE; CONDUCTIVITY; SI(100); RECOMBINATION; silicon thin films; terahertz spectroscopy; grain boundaries; low-temperature MBE; carrier dynamics
Dewey-Dezimal-Klassifikation500 Naturwissenschaften und Mathematik > 530 Physik
StatusVeröffentlicht
BegutachtetJa, diese Version wurde begutachtet
An der Universität Regensburg entstandenJa
Dokumenten-ID42970

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