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Titova, Lyubov V. ; Cocker, Tyler L. ; Xu, Sijia ; Baribeau, Jean-Marc ; Wu, Xiaohua ; Lockwood, David J. ; Hegmann, Frank A.

Ultrafast carrier dynamics and the role of grain boundaries in polycrystalline silicon thin films grown by molecular beam epitaxy

Artikel

Titova, Lyubov V., Cocker, Tyler L., Xu, Sijia, Baribeau, Jean-Marc, Wu, Xiaohua, Lockwood, David J. und Hegmann, Frank A. (2016) Ultrafast carrier dynamics and the role of grain boundaries in polycrystalline silicon thin films grown by molecular beam epitaxy. Semiconductor Science and Technology 31 (10), S. 105017.



Beteiligte Einrichtungen


Details

DokumentenartArtikel
Titel eines Journals oder einer ZeitschriftSemiconductor Science and Technology
VerlagIOP PUBLISHING LTD
Ort der VeröffentlichungBRISTOL
Band31
Nummer des Zeitschriftenheftes oder des Kapitels10
SeitenbereichS. 105017
Datum2016
Veröffentlichungsdatum17 Mrz 2020 12:08
InstitutionenPhysik > Institut für Experimentelle und Angewandte Physik > Lehrstuhl Professor Huber > Arbeitsgruppe Rupert Huber
Identifikationsnummer
WertTyp
10.1088/0268-1242/31/10/105017DOI
Stichwörter / KeywordsRESOLVED TERAHERTZ SPECTROSCOPY; CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION; TEMPERATURE SI GROWTH; AMORPHOUS-SILICON; LIMITING THICKNESS; NANOCRYSTAL FILMS; ON-SAPPHIRE; CONDUCTIVITY; SI(100); RECOMBINATION; silicon thin films; terahertz spectroscopy; grain boundaries; low-temperature MBE; carrier dynamics
Dewey-Dezimal-Klassifikation500 Naturwissenschaften und Mathematik > 530 Physik
StatusVeröffentlicht
BegutachtetJa, diese Version wurde begutachtet
An der Universität Regensburg entstandenJa
Dokumenten-ID42970

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