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Wu, Si-Si ; Huang, Teng-Xiang ; Lin, Kai-Qiang ; Yao, Xu ; Hu, Jing-Ting ; Tang, Ding-Liang ; Bao, Yi-Fan ; Ren, Bin

Photo-induced exfoliation of monolayer transition metal dichalcogenide semiconductors

Wu, Si-Si, Huang, Teng-Xiang, Lin, Kai-Qiang , Yao, Xu, Hu, Jing-Ting, Tang, Ding-Liang, Bao, Yi-Fan und Ren, Bin (2019) Photo-induced exfoliation of monolayer transition metal dichalcogenide semiconductors. 2D Materials 6 (4), 045052.

Veröffentlichungsdatum dieses Volltextes: 03 Sep 2021 09:42
Artikel



Beteiligte Einrichtungen


Details

DokumentenartArtikel
Titel eines Journals oder einer Zeitschrift2D Materials
Verlag:IOP PUBLISHING LTD
Ort der Veröffentlichung:BRISTOL
Band:6
Nummer des Zeitschriftenheftes oder des Kapitels:4
Seitenbereich:045052
Datum2019
InstitutionenPhysik > Institut für Experimentelle und Angewandte Physik > Lehrstuhl Professor Lupton > Arbeitsgruppe Christian Schüller
Physik > Institut für Experimentelle und Angewandte Physik > Lehrstuhl Professor Lupton > Arbeitsgruppe John Lupton
Identifikationsnummer
WertTyp
10.1088/2053-1583/ab42b6DOI
Stichwörter / KeywordsLARGE-AREA SYNTHESIS; MOS2; FABRICATION; SURFACES; LAYERS; WSE2; photo-induced exfoliation; 2D semiconductors; transition metal dichalcogenides; monolayer fabrication; thinning
Dewey-Dezimal-Klassifikation500 Naturwissenschaften und Mathematik > 530 Physik
StatusVeröffentlicht
BegutachtetJa, diese Version wurde begutachtet
An der Universität Regensburg entstandenJa
Dokumenten-ID48162

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