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Hoelzl, R. ; Range, K.-J. ; Fabry, L.

Modeling of Cu gettering in p- and n-type silicon and in poly-silicon

Hoelzl, R., Range, K.-J. und Fabry, L. (2002) Modeling of Cu gettering in p- and n-type silicon and in poly-silicon. Applied Physics A: Materials Science & Processing 75 (4), S. 525-534.

Veröffentlichungsdatum dieses Volltextes: 19 Dez 2024 15:37
Artikel



Beteiligte Einrichtungen


Details

DokumentenartArtikel
Titel eines Journals oder einer ZeitschriftApplied Physics A: Materials Science & Processing
Verlag:SPRINGER-VERLAG
Ort der Veröffentlichung:NEW YORK
Band:75
Nummer des Zeitschriftenheftes oder des Kapitels:4
Seitenbereich:S. 525-534
Datum2002
InstitutionenChemie und Pharmazie > Institut für Anorganische Chemie > Entpflichtete oder im Ruhestand befindliche Professoren > Prof. Dr. Klaus-Jürgen Range
Identifikationsnummer
WertTyp
10.1007/s003390101021DOI
Stichwörter / KeywordsDIFFUSION-COEFFICIENT; INTERSTITIAL COPPER; ENHANCED SOLUBILITY; PRECIPITATION; IMPURITIES; KINETICS; WAFERS; BORON; IRON; CONTAMINATION;
Dewey-Dezimal-Klassifikation500 Naturwissenschaften und Mathematik > 540 Chemie
StatusVeröffentlicht
BegutachtetJa, diese Version wurde begutachtet
An der Universität Regensburg entstandenJa
Dokumenten-ID72700

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