Influence of the epitaxial composition on N-face GaN KOH etch kinetics determined by ICP-OES
Tautz, Markus, Kuchenbrod, Maren T., Hertkorn, Joachim, Weinberger, Robert, Welzel, Martin, Pfitzner, Arno
und Díaz Díaz, David
(2020)
Influence of the epitaxial composition on N-face GaN KOH etch kinetics determined by ICP-OES.
Beilstein Journal of Nanotechnology 11, S. 41-50.
Veröffentlichungsdatum dieses Volltextes: 11 Okt 2021 13:04
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Beteiligte Einrichtungen
Details
| Dokumentenart | Artikel | ||||
| Titel eines Journals oder einer Zeitschrift | Beilstein Journal of Nanotechnology | ||||
| Verlag: | BEILSTEIN-INSTITUT | ||||
|---|---|---|---|---|---|
| Ort der Veröffentlichung: | FRANKFURT AM MAIN | ||||
| Band: | 11 | ||||
| Seitenbereich: | S. 41-50 | ||||
| Datum | 2020 | ||||
| Institutionen | Chemie und Pharmazie > Institut für Organische Chemie Chemie und Pharmazie > Institut für Organische Chemie > Arbeitskreis Prof. Dr. David Díaz Díaz | ||||
| Identifikationsnummer |
| ||||
| Stichwörter / Keywords | DEPENDENCE; GROWTH; BLUE; etching; GaN; ICP-OES; KOH; LED | ||||
| Dewey-Dezimal-Klassifikation | 500 Naturwissenschaften und Mathematik > 540 Chemie | ||||
| Status | Veröffentlicht | ||||
| Begutachtet | Ja, diese Version wurde begutachtet | ||||
| An der Universität Regensburg entstanden | Ja | ||||
| Dokumenten-ID | 50431 |
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