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Ion beam deposition of fluorinated amorphous carbon

Ronning, C. ; Büttner, M. ; Vetter, U. ; Feldermann, H. ; Wondratschek, O. ; Hofsäss, H. ; Brunner, W. ; Au, Frederick C. K. ; Li, Quan ; Lee, S. T.



Zusammenfassung

We have studied the growth and the properties of (t)a-C:F films prepared by the deposition of mass separated C-12(+) and F-19(+) ions as a function of the F concentration. The films are always strongly F deficient due to the formation of volatile F-2 and CFx molecules during the deposition process. A maximum F content of about 25 at. % is obtained for an ion charge ratio of C+:F+ = 1:1. The ...

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