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Nanometer-scale scanning sensors fabricated using stencil lithography

URN zum Zitieren dieses Dokuments:
urn:nbn:de:bvb:355-epub-790921
DOI zum Zitieren dieses Dokuments:
10.5283/epub.79092
Champagne, A. R. ; Couture, A. J. ; Kuemmeth, Ferdinand ; Ralph, D. C.
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Veröffentlichungsdatum dieses Volltextes: 07 Apr 2026 08:48



Zusammenfassung

We describe a flexible technique for fabricating 10-nm-scale devices for use as high-resolution scanning sensors and functional probes. Metallic structures are deposited directly onto atomic force microscope tips by evaporation through nanoscale holes fabricated in a stencil mask. We report on the lithographic capabilities of the technique and discuss progress in one initial application, to make high-spatial-resolution magnetic force sensors.


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