Anzahl der Einträge: 1.
Wegscheider, Werner,
Eberl, Karl,
Abstreiter, Gerhard,
Cerva, Hans und
Oppolzer, Helmut
(1991)
Comparison of Growth and Strain Relaxation of Si/Ge Superlattices under Compressive and Tensile Strain Field.
In:
Bean, John Condon, (ed.)
Silicon molecular beam epitaxy: symposium held April 29- May 3, 1991, Anaheim, California, USA.
Materials Research Society symposium proceedings, 220.
Materials Research Society, Pittsburgh, Pennsylvania, USA, S. 135.
ISBN 1-558-99114-X.
Volltext nicht vorhanden.
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